面向高階光電材料、半導體晶圓、光學鍍膜與能源材料的 reference-grade UV-Vis/NIR 分析平台。
以雙單光器、三偵測器系統與大型模組化樣品室為核心，搭配 URA、積分球與 Brewster's Angle 等附件，建立從穿透、反射、漫反射到角度與偏振條件的完整材料量測工作流。
旗艦平台的價值在於光學架構本身：對高吸收、低穿透率、高反射率或需要跨 UV-Vis-NIR 的材料，穩定的光源、低雜散光與偵測器切換品質直接決定資料可信度。
LAMBDA 850+ / 1050+ 適合需要可重現高精度光譜的實驗室，尤其是薄膜、鍍膜、光學玻璃、太陽能材料與低穿透率樣品。雙單光器架構協助壓低雜散光，三偵測器組合則讓 UV、可見光與近紅外波段都能維持良好的訊號品質。
| 核心光學 | 雙單光器設計，用於提升低雜散光與高解析度量測表現 |
| 偵測器 | PMT / InGaAs / PbS 三偵測器系統，覆蓋 UV-Vis-NIR 波段 |
| 量測模式 | 穿透、反射、漫反射、角度依存與偏振條件分析 |
| 資料用途 | n&k 值計算、膜厚判讀、反射率驗證與材料製程評估 |
雙單光器設計適合需要低雜散光的高吸收與低穿透率樣品，讓厚膜、深色材料與濾光片分析更可靠。
PMT、InGaAs、PbS 依波段分工，讓 UV、可見光與 NIR 區間都能兼顧靈敏度與量測穩定性。
針對高反射率鍍膜、強吸收材料或低穿透率膜層，保留可用訊號區間，降低資料飽和或雜訊風險。
LAMBDA 850+ / 1050+ 的選型重點不只是波段範圍，而是能否把不同產業樣品放進可重現的量測流程中，並取得足以支撐設計、品保與研發決策的光譜資料。
用於晶圓、薄膜堆疊與表面處理材料的穿透 / 反射分析，協助評估膜層一致性、光學常數與製程差異。
對 AR coating、IR coating、濾光片、反射膜與光學玻璃進行寬波段穿透率、反射率與角度條件評估。
支援太陽能材料、建築玻璃、隔熱膜與能源科技材料的總反射、總透射與太陽光譜相關性能分析。
高階 UV-Vis/NIR 的實戰能力取決於附件矩陣。依樣品是鏡面、霧面、散射、薄膜或角度敏感材料，可組合不同量測模組建立完整方法。
用於可變角鏡面反射與絕對反射分析，適合高反射膜、濾光片、光學鍍膜與角度依存材料。
| 模式 | Variable-angle reflectance |
| 樣品 | 鏡面反射膜、濾光片、光學鍍膜 |
用於總穿透、總反射、漫反射與散射樣品量測，適合霧面材料、能源材料、建築玻璃與擴散膜。
| 模式 | Total / diffuse transmittance & reflectance |
| 樣品 | 散射膜、玻璃、太陽能與能源材料 |
針對薄膜干涉條紋、變角透射與偏振條件分析，連往統一 Brewster's Angle 頁面確認配置方式。
| 模式 | Variable-angle transmission |
| 搭配 | Polarizer、薄膜 holder、UV-Vis / FTIR |
請提供樣品種類、波長範圍、穿透 / 反射模式、是否需要 URA、Integrating Sphere、偏振或 n&k 分析。我們可協助整理主機、附件、軟體與方法建立需求。
