PSD Series
PSD-UV 系列
六段預設時間控制
15／30／45／60／90／120 分鐘；標準配置不含加熱平台。
NovaScan UV Ozone 臭氧清洗機
185 nm 紫外光促使氧氣形成臭氧；254 nm 紫外光則參與臭氧分解，並促進表面有機污染物的去除。 常用於表面清潔、活化與光阻殘留處理。
NovaScan UV Ozone 全系列
根據樣品尺寸與擺放面積，提供 4 × 4 吋至 20 × 20 吋 UV 燈管尺寸，並可搭配臭氧還原系統。
PSD Pro Series
PSDP-UV 系列
可自訂處理時間
具倒數、暫停、中斷與設定記憶；標準配置不含加熱平台。
PSD Pro Heated Series
PSDP-UVT 系列
可自訂處理時間與加熱溫度
PID 加熱平台最高 200°C；300°C 可選。
OES Series
OES 臭氧還原系統
殘餘臭氧抽排與催化處理
臭氧相容無油隔膜幫浦將腔體氣體導入並聯雙濾器催化過濾模組（Parallel Dual Filter Catalytic Filtration Module），使臭氧分解為氧氣，總反應為 2 O3 → 3 O2，結合氣體抽排與臭氧催化處理。
- OES1000D3：室溫臭氧還原系統
- OES1000DT200：適用於加熱至最高 200°C 臭氧還原系統
- OES1000DT300：適用於加熱至最高 300°C 臭氧還原系統
- Auto Activated Ozone Evacuator：可讓相容的 PSDP UV 主機配合 UV 處理流程，在處理期間及處理後自動控制臭氧還原系統的啟動與停止。
Application Scope
UV Ozone 應用領域
- 表面清潔玻璃、ITO、晶圓、PDMS 與聚合物的有機污染處理。
- 半導體與薄膜晶圓、基板清潔，以及塗佈與薄膜沉積前處理。
- 顯微與感測SEM／TEM 樣品、AFM 探針與 QCM 感測器的表面前處理。
- 表面活化與附著潤濕性調整、塗佈、黏著與鍵合前的樣品準備。
- 微流體PDMS／glass 與熱塑性元件的鍵合及流道前處理。
- 光阻與聚合物殘留以 Thermal UV 評估光阻及聚合物殘留的處理條件。