台灣唯一授權總代理 Surface Cleaning / Activation / PDMS Bonding

Harrick Plasma電漿清洗機

全球學術界公認的表面處理標竿

自 1980 年代起,Harrick 以卓越的製程穩定性引領科研市場。
作為台灣唯一授權總代理,翰揚貿易深耕微流道 PDMS 鍵合與半導體改質應用,
結合全球 8,000 篇文獻實績,為您提供專業的原廠技術對接。

8,000+ 全球學術文獻引用
30+ 年表面處理技術經驗
原廠授權台灣唯一總代理
Latest News

最新消息與 技術突破

2026.05

Harrick Plasma 在微流道 PDMS 鍵合的尖端應用

整理 PDMS 與玻璃貼合前的表面活化邏輯,協助研究室從接觸角變化更快判斷 bonding window。

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2026.05

WCA 驗證成為電漿改質導入的核心溝通語言

從 untreated 到 treated 的接觸角落差,可快速對應表面自由能提升幅度,讓採購與研究端更容易對齊評估標準。

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2026.04

尖端高分子材料前處理更重視無化學溶劑殘留

對生醫材料與感測元件研究而言,乾式 plasma cleaner 的奈米級清潔優勢,逐漸取代傳統濕式前處理的殘留疑慮。

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2026.03

表面清洗與電子封裝前段製程的整合判斷更精細

從腔體容量、處理節奏到真空系統配置,研究團隊更傾向以系統整合思維評估電漿前處理設備。

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Benefits of Plasma Cleaning

以 WCA 接觸角數據直觀驗證表面自由能與親水性的顯著提升

桌上型電漿清洗機可快速去除有機污染並調整材料表面化學,且不需使用危險的濕式化學品,特別適合研究室常見的前處理與界面改質流程。

  • 表面清潔與官能基導入:電漿清洗可透過化學反應去除有機污染,或透過物理剝離進行表面清潔;同時依製程氣體不同,於材料表面導入 hydroxyl、carbonyl、carboxyl、amine 等官能基。
  • 顯著提升親水性(Hydrophilicity):多數材料在電漿處理後會轉為更親水的表面狀態,常直接反映在水接觸角(WCA)下降與潤濕性提升。
  • 強化附著與鍵合:潔淨且具高潤濕性的表面,通常更有利於後續鍍膜、分子吸附、塗層鋪展,以及雙材貼合與 PDMS bonding。
  • 不影響材料 bulk properties:電漿處理僅作用於奈米尺度表層,不改變材料整體物理特性,因此也適用於多種材質與較複雜的表面幾何。
[ EXPERIMENTAL EVIDENCE ]
Water contact angle comparison before and after plasma cleaning
未處理: 92°
氫氣電漿活化: <10°

圖 1. 水滴在三種不同硼矽酸鹽玻璃表面上的接觸角測量結果:(a) 鹵代烴蠟塗層 (92°),(b) 未處理 (32°),以及 (c) 使用 Harrick 電漿清洗機進行氬氣電漿清洗 (<10°)。資料來源:Sumner, AL, EJ Menke, Y. Dubowski, JT Newberg, RM Penner, JC Hemminger, LM Wingen, T. Brauers, BJ Finlayson-Pitts. “The Nature of Water on Surfaces of Laboratory Systems and Implications for Heterogeneous Chemistry in the Troposphere.” Phys. Chem. Chem. Phys. (2004) 6: 604-613. 經英國皇家化學學會許可轉載(http://www.rsc.org/pccp)。

技術文獻庫與 影音資源

FAQ

常見 問題

什麼是電漿(Plasma)?

電漿可視為一種部分電離的氣體狀態,內部同時存在電子、離子以及中性原子或分子,因此常被歸類為物質第四態。對研究室常見的低壓 RF 電漿而言,雖然電子能量顯著高於中性氣體粒子,但整體電漿本體通常仍維持接近環境溫度,這也是它能用於高分子、生醫材料與熱敏感樣品前處理的重要原因。

依 Harrick Plasma 官方的技術說明,電漿形成的關鍵在於射頻振盪電場對電子的加速作用;當電子獲得足以超過氣體第一游離能的動能後,便會與中性分子碰撞並產生進一步游離,形成可持續存在的活性電漿環境。也因此,電漿處理的核心不是「整體加熱材料」,而是透過高反應性表面物種在奈米尺度內完成表面清潔、活化與化學改質。

電漿對材料表面有哪些核心作用機制?

表面清潔(Surface Cleaning):移除有機污染物、低分子殘留與吸附附雜質,讓樣品表面回到更可控制的前處理狀態,常作為鍍膜、貼合、塗佈與量測前的第一步。

表面活化(Surface Activation):在表面導入具反應性的化學官能基,提升表面能(Surface Energy)與親水性(Hydrophilicity),常直接反映在水接觸角下降、潤濕性改善,以及後續膠合與塗層均勻性提升。

微觀蝕刻(Plasma Etching):透過受控的表面去除作用修飾微觀形貌與粗糙度,進一步影響界面接觸、表面自由能與特定材料的附著表現。

表面交聯(Surface Cross-linking):在部分聚合物系統中,電漿亦可能促進表層分子交聯,使表面結構更穩定,進而兼顧附著性、耐受性與後續製程相容性。

這四種作用並非彼此獨立,而是會隨製程氣體、腔體壓力、功率與處理時間共同影響結果。也因此,Harrick Plasma 的價值不僅在於「把表面變乾淨」,更在於能以可重現的方式調整材料界面,使玻璃、矽晶片、高分子、纖維多孔材料與奈米結構樣品都能獲得更可預期的表面狀態。

操作時的關鍵參數有哪些?

製程氣體選擇(Gas Selection) 會決定主要的反應路徑與表面官能基類型。例如氧氣常用於表面清潔與親水化,氫氣常用於較偏物理性的清潔或蝕刻,氮氣、氫氣或混合氣體則可能對特定聚合物與界面化學帶來不同結果。

真空度(Vacuum Level) 會影響自由程、活性物種碰撞機率與電漿穩定性;處理時間RF 功率 則共同決定接觸角變化速度、表面改質深度與是否過度處理。對研究室而言,真正重要的不是單一參數「愈高愈好」,而是是否能在樣品材質、目標功能與後續製程之間找到可重現的窗口。

若樣品涉及 PDMS 貼合、薄膜前處理、晶片表面清潔或生醫材料界面改質,建議在導入前就同步評估樣品尺寸、處理節拍、目標接觸角區間與後續製程銜接需求。如此一來,型號選擇、真空配置與氣體控制附件才能真正對應到實驗目的,而不是僅以名義功率或單次處理結果作判斷。

Harrick Plasma 常見應用有哪些?

常見用途包含表面清洗、表面活化、親水化、PDMS 鍵合、材料前處理、電子與半導體研究,以及量測或製程前的界面調整。對微流道、生醫材料、薄膜、感測器與晶片相關研究而言,電漿處理通常扮演提升潤濕性、附著力與界面一致性的關鍵角色。

尚未確認附件或配置方式時,是否可先進行需求確認?

可以。若已知樣品材質、尺寸、研究目的與預計處理流程,我們可先協助整理適合的型號、真空配置與氣體控制附件方向,再進一步對應原廠資料與報價需求。這樣通常比單看主機型號更能縮短實際導入評估時間。

翰揚貿易股份有限公司是否為 Harrick Plasma 台灣授權代理?

是。翰揚貿易股份有限公司 SmarTeam Scientific Corp. 為 Harrick Plasma 台灣唯一授權總代理,可協助型號確認、原廠技術資料對接、授權證明與正式詢價流程。若需要進一步佐證,可參考網站中的 授權證明頁面

Harrick Plasma 機型與附件詢價

若已確認樣品材質、尺寸與處理目的,可提供需求以便評估主機與附件。