標準型
PSD-UV 系列
Preset Digital Controller
適合常規表面清潔與活化需求。以預設數位控制器搭配簡潔操作為主，對於研究室常見的固定處理流程十分實用。
預設數位控制器，兩鍵操作
15 / 30 / 45 / 60 / 90 / 120 分鐘處理時間
處理循環可中途手動中斷
尺寸範圍 4×4" 至 20×20"
Novascan UV Ozone Cleaner 採用 185 nm 與 254 nm 深紫外線結合臭氧反應，可用於表面清潔、表面活化與有機污染物去除。常見應用包含玻璃、晶圓、PDMS、微流體元件、AFM / SEM / TEM 樣品前處理，以及光阻殘留去除等研究與製程需求。系列尺寸涵蓋 100×100 mm 至 500×500 mm，可依實際應用於訂購階段選配合適規格。
NovaScan UV Ozone 臭氧清洗機提供 4 吋至 20 吋主機尺寸，可依樣品大小與處理規模，對應小量研究到批量應用需求。
適合常規表面清潔與活化需求。以預設數位控制器搭配簡潔操作為主，對於研究室常見的固定處理流程十分實用。
研究級 UV/Ozone 系統，適合需要更細部控制與更高重現性的實驗流程。可在空氣環境下使用，也可經由標配 gas ports 導入氧氣以提升臭氧生成效率。
在 PSDP 研究型基礎上，工廠出廠即整合加熱平台，適合需要更高處理能量與更佳去除效率的應用，例如光阻殘留處理與部分高能表面前處理流程。
OES1000D 設計用於配置在 PSD 或 PSDP 系列主機旁側或下方，透過內建 Teflon 臭氧幫浦與臭氧還原模組，快速移除 UV/Ozone 處理後的殘留臭氧，協助改善操作環境與場域管理。
官方案例顯示，玻璃表面經 UV/Ozone 處理後可由疏水轉為親水，常見於細胞培養、玻片處理、PDMS 微流體與表面活化前處理。
適用於玻璃、晶圓、ITO、PDMS、AFM probes 與多種材料表面之有機殘留去除與表面清潔。
可用於 PDMS、COC、PS 等微流體元件的表面準備與 bonding 前處理，亦為 Novascan 常見應用方向之一。
Thermal UV 模式特別適合 photoresist stripping、wafer cleaning 與半導體表面預處理等應用。
Novascan UV ozone 的實際用途，包含玻璃表面親水化，以及有機污染物去除前後的 AFM 圖像比較，對評估 UV/Ozone 處理效果具有相當參考價值。
Novascan 提供 fixed height 與 variable height 方向。若樣品高度、紫外線距離控制或不同型態樣品處理是重點，應在購買前一併確認 stage 形式與可處理高度。
若應用涉及 photoresist stripping、wafer cleaning、PDMS / 玻璃處理等較高處理能量需求，建議於訂購階段確認是否配置加熱平台。PSDP-UVT 為原廠出廠整合之加熱型號。
官方提供 top / bottom dual UV 選項，可用於需要同時處理樣品上下表面的應用。若雙面處理是固定需求，建議於產品選擇階段即納入規劃。
部分應用會考慮以氧氣流程提升臭氧生成效率，或配置 gas flow cell 與更特殊的樣品條件。這些都屬於購買時應先評估的方向，而非標準機通用內容。
可依樣品材質、尺寸、是否需要加熱、通風條件與研究流程，協助評估 PSD、PSDP 或 PSDP-UVT 的合適方向。
翰揚亦為 Harrick Plasma 氧電漿清洗設備總代理，長期接觸表面清潔、表面改質與研究前處理應用，對這類設備的產品選擇邏輯較容易協助對應。
此類設備日常最常見的需求多與燈管、配件與使用設定相關。若涉及更深入的高壓電或原廠層級維修，可協助對接返修流程與原廠溝通。
可配合研究單位常見的詢價、規格確認與文件整理流程，協助在正式採購前先把系列、尺寸與選配方向釐清。
若你已大致知道樣品尺寸、材質、是否需要加熱，以及實驗室是否具備通風條件，我們就能更快協助你縮小到合適的 Novascan UV Ozone 系列與配置方向。