專為 in situ Raman 光譜儀設計，具備精準的溫度控制與高真空氣密腔體，完美對應非均相催化 (Heterogeneous Catalysis) 與氣固反應 (Gas-solid interaction) 的嚴苛條件。
提供穩定可靠的熱力學與氣氛控制，無縫整合至您現有的 Raman 顯微鏡或光譜儀系統。
專為嚴苛的動態反應設計，提供卓越的氣密性與寬廣的工作溫度，是光化學反應 (Photochemical reaction) 與氧化機制研究的最佳利器。
| 工作溫度 | 真空環境下最高可達 910°C |
| 壓力 / 真空 | High vacuum 至 25.8 ktorr |
| 適用系統 | 標準 Raman microscope 或光譜儀 |
| 核心應用 | 非均相催化 / 氣固交互作用 / 氧化還原機制 |
強大的數位控制單元，支援複雜的升溫與持溫程序設定，確保原位實驗的熱力學條件精準且具備高度可重複性。
| 溫度設定範圍 | -200°C 至 1250°C (適用 K-type 熱電偶) |
| 程式編輯能力 | 支援高達 40 段 Ramp / Soak 程序設定 |
| 數位通訊 | RS-485 連接埠 / 可選配 USB 轉接器 |
| 進階特點 | Watlow EZ-ZONE 雙通道控制 / 24V 低電壓輸出 |
透過高溫反應腔精準控制不同氣氛，實現對反應過程中分子結構的 Operando 即時觀測。
本圖譜展示了在受控環境下，利用本系統捕捉催化劑在不同反應階段的動態變化，證實設備在複雜氣體交互作用中的高解析能力。
提供樣品型態、最高溫度與是否需要真空 / 氣氛控制，我們可協助評估合適的 Raman 高溫反應附件配置。
