30° 至 80° 連續變角
可依樣品特性、膜厚與訊號需求自由調整最佳入射角,提升薄膜、鍍膜與表面樣品的量測靈敏度與可解釋性。
高效能、連續可調入射角設計。單一平台整合掠角鏡面反射與變角 ATR 深度剖析,並支援全自動化角度控制與偏振鏡連動。
VeeMAX III 是研究級可變角鏡面反射附件,可用於薄膜、單分子層、聚合物表面與鍍膜樣品分析。透過 30° 至 80° 的入射角調整,使用者可依樣品厚度、基材性質與目標訊號選擇最佳量測條件;搭配 Slip-On ATR 晶體模組後,更可快速切換為變角 ATR 深度剖析平台。
可依樣品特性、膜厚與訊號需求自由調整最佳入射角,提升薄膜、鍍膜與表面樣品的量測靈敏度與可解釋性。
透過 Slip-On ATR 晶體設計,可在不需重新對光的前提下快速切換為變角 ATR 模式,支援 ZnSe、Ge 與 Si 晶體。
可選配馬達驅動版本與 AutoPRO 軟體,自動完成多角度掃描與偏振控制,適合高精度與高重現性需求的研究工作流程。
採用高效率全反射光學設計,即使在高入射角條件下仍能維持良好能量吞吐量,適合高訊噪比需求的量測情境。
VeeMAX III 並非單純的鏡面反射附件,而是為表面分析、單分子層研究與薄膜深度剖析所設計的研究型平台。從超薄膜到相對較厚的功能鍍層,使用者可透過角度、偏振與 ATR 模式切換來調整靈敏度與資訊深度,建立更完整的表面化學與結構判讀能力。
在 ATR 模式下,入射角的調整會改變有效穿透深度,使使用者能觀察不同深度層位的訊號變化。對多層膜、界面結構與聚合物表層研究而言,這種變角量測方式有助於建立更具層次的深度資訊。
針對金屬基板上的超薄膜與單分子層,掠角鏡面反射可有效放大表面訊號並提升對極薄層的偵測能力。VeeMAX III 的變角設計可協助研究人員在不同樣品條件下選擇最適化的表面量測角度。
自動化版本可搭配 AutoPRO 軟體與偏振控制模組,讓入射角與偏振角分別設定並同步執行。對多角度量測、方法標準化與高重現性研究流程而言,能有效降低人工操作誤差。
| 入射角度範圍 | 30° – 80° |
| 操作模式 | Specular Reflectance / ATR |
| 適用樣品 | 鍍膜、薄膜、單分子層、聚合物表面 |
| 自動化控制 | 可選配 Motorized 版本,整合角度與偏振控制 |
| ATR 晶體選項 | ZnSe、Ge、Si(Slip-On 設計) |
| 系統密閉性 | 具備 Purge 吹掃功能設計 |
| 光學設計 | All reflective optics |
| 樣品遮罩 | 2”、5/8” 與 3/8” masks |
若您正在規劃薄膜、鍍膜、單分子層或聚合物表面的 FTIR 表面分析,歡迎提供 FTIR 機型、樣品基材、膜厚範圍以及是否需要偏振與自動化控制。我們可協助整理適合的 VeeMAX III 配置方向。