ATR Accessories

FTIR ATR 衰減全反射附件Attenuated Total Reflectance Accessories

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Routine & High Throughput

常規與高通量分析Routine & High Throughput

適合日常 QA/QC、固體粉末、液體、薄膜與快速多樣品篩選,是多數實驗室最常優先評估的 ATR 類型。

Harrick Harrick DiaMax ATR
高光通量 Diamond ATR,內建 pressure applicator,適合硬質固體、粉末與常規高通量量測。

Harrick DiaMax ATR

常規高通量 Diamond ATR|堅固耐用、防過載設計

DiaMax ATR 採用高光通量鑽石晶體與精密壓持器,能協助粉末、硬質固體與具磨耗性的樣品取得穩定接觸,適合例行分析與研究室共用平台。

主要用途Diamond ATR 常規高通量平台
採樣面積1.5 mm diameter
壓持結構內建防過載滑動離合器 pressure applicator
延伸能力可選配固體樣品加熱套件,最高 200°C
PIKE PIKE MIRacle ATR
可更換 crystal plates,支援單次/多次反射、壓持器、溫控與流通模組,是高彈性的 routine ATR 平台。

PIKE MIRacle ATR

經典可更換晶體板 ATR|高通量常規分析

通用型 ATR 取樣附件,可用於分析固體、液體、糊狀物、凝膠與難溶性材料。適合樣品鑑定與 QA/QC。

反射形式1.8 mm 單次反射 / 6.0 mm 多次反射
入射角45°
晶體選擇Diamond/ZnSe, Diamond/KRS-5, ZnSe, Ge, Si
常見延伸壓持器、溫控、流通與密封樣品模組
Harrick Harrick AccessATR
固定 45° 入射角、隨插即用,內建液體槽與旋鈕式固體壓持器。

Harrick AccessATR

固定 45° 單反射 ZnSe ATR|內建液體槽與固體壓持器

AccessATR 採固定 45° 單次反射光路與樣品室滑板式安裝設計,裝入對應的 FTIR 滑板座後即可使用,無需重新校正光路;適合教學、日常 QA/QC、原料確認與多樣品快速量測。

入射角固定 45°
晶體選項ZnSe 或 Ge
硬體設計內建液體槽與固體壓持器
適用對象教學實驗室、常規 QA/QC、基礎 FTIR 取樣
Specac Specac Quest ATR
Puck 磁吸快拆設計,適合需要快速更換 ATR 晶體與高通量常規分析的使用情境。

Specac Quest ATR

高通量常規單反射 ATR|Puck 磁吸快拆設計

Quest ATR 採用磁吸式 Puck 晶體盤設計,讓使用者能快速切換常用晶體材質,適合多樣品常規量測與日常品管流程。

硬體特色Puck 磁吸快拆設計
晶體選項Diamond / ZnSe / Ge
適用方向高通量日常品管、多樣化樣品快速分析
Extreme Environments

極端環境與高溫高壓Extreme Environments

用於高溫、高壓、腐蝕性樣品、in-situ 監測與相變研究等嚴苛量測條件。

PIKE PIKE ReactorMAX ATR
支援流體導入、壓力與溫度控制,適合觸媒、聚合反應與化學動力學 in-situ FTIR 監測。

PIKE ReactorMAX ATR

高溫高壓 in-situ 監測系統

ReactorMAX ATR 專為嚴苛化學反應條件設計,提供可控溫、可加壓與流通反應配置,適合需要即時監測反應進程的研究應用。

溫度範圍常溫至 215°C
壓力能力最高 55 bar / 800 psi
入射角45° / 60° 或 35° - 65° 可變角度
適合方向催化、聚合、流體動力學與 in-situ 監測
PIKE PIKE IRIS ATR 產品圖
高壓與廣光譜範圍 ATR,適合極端壓力條件、粉末、礦物與高硬度固體樣品。

PIKE IRIS ATR

高壓與廣光譜範圍 ATR|10,000 psi 壓力能力

IRIS ATR 適合需要高壓接觸與寬光譜量測範圍的進階應用,可用於礦物、粉末、硬質材料與高壓環境下的固態樣品分析。

壓力能力高達 10,000 psi
光譜重點高壓與廣光譜範圍
適合方向高硬度粉末、礦物分析與極端壓力研究
PIKE PIKE GladiATR Heated
全不鏽鋼無 O-ring 設計,適合高溫、腐蝕性與嚴苛化學樣品條件。

PIKE GladiATR Heated

高溫鑽石 ATR|全不鏽鋼無 O-ring 設計

GladiATR Heated 以耐用的鑽石晶體與全不鏽鋼結構對應高溫與腐蝕性樣品需求,適合常規 ATR 無法承受的嚴苛量測條件。

最高溫度300°C
結構設計全不鏽鋼無 O-ring 設計
適用方向高溫樣品、腐蝕性樣品與嚴苛環境 ATR 分析
Specac Specac Golden Gate ATR
經典高低溫 Diamond ATR,可對應超低溫至高溫的 in-situ 與相變研究。

Specac Golden Gate ATR

高溫/低溫鑽石 ATR 系統|寬溫域量測配置

Golden Gate ATR 適合需要寬廣溫控範圍的研究型應用,可用於相變、低溫條件、高溫反應與 in-situ FTIR 觀察。

溫度範圍-150°C to 300°C
晶體配置Diamond ATR
適用方向極端溫控、相變研究、in-situ 量測
Surface, Wafer & Photochemistry

特殊表面、薄膜晶圓與光化學Specialized ATR Applications

針對薄膜、晶圓、單分子層、電化學界面、微量液體與 UV/Vis 光化學 in-situ 監測等特殊 ATR 應用。

Harrick Harrick VariGATR
60° 至 65° 可變高入射角,專為薄膜、晶圓與單分子層表面訊號最佳化。

Harrick VariGATR

掠角 ATR|薄膜、晶圓與表面分析

VariGATR 採用掠角 ATR 光路,適合半導體晶圓、金屬基材上的單分子層、吸附物種與極薄膜分析,也可搭配偏振元件提升光譜對比並研究分子取向。

入射角60° 至 65° 可變角度
核心晶體Ge 半球形晶體
樣品尺寸最大可容納 8-inch 晶圓或大型基板
適合方向薄膜、金屬塗層、晶圓表面與單分子層分析
Harrick Harrick FastIR 薄膜與表面 ATR 附件
固定 45° 單反射水平 ATR,可直接處理液體、糊狀物、粉末、柔性聚合物與軟膜。

Harrick FastIR

固定 45° 單反射水平 ATR|液體、糊狀物與柔性固體

FastIR 是固定 45° 的單反射水平 ATR 附件,可直接量測液體、糊狀物、粉末、柔性聚合物與軟膜;內建固體壓板與夾具,並附有揮發性樣品使用的玻璃蓋片。

品牌Harrick Scientific
應用方向液體、糊狀物、粉末、柔性聚合物與軟膜
取樣設計水平晶體面、固體壓板與揮發性樣品玻璃蓋片
Harrick Harrick WafIR 晶圓與平面基板 ATR 附件
以 45° Si 耦合晶體與多重反射量測雙面拋光晶圓上的單分子層與單面薄膜鍍層。

Harrick WafIR

晶圓多重反射 ATR|單分子層與單面薄膜鍍層

WafIR 用於雙面拋光晶圓上的單分子層與單面薄膜鍍層分析,透過 45° Si 耦合晶體與晶圓內的多重反射提高薄層訊號,亦可量測矽晶圓中的低濃度雜質與氧含量。

品牌Harrick Scientific
應用方向晶圓、半導體基板、單面鍍膜與表面污染分析
配置確認wafer 尺寸、膜層位置、基板材質與主機相容性
Harrick Harrick ConcentratIR2
10 uL 微量液體即可量測,多重反射設計可提升微量樣品吸收訊號。

Harrick ConcentratIR2

微量液體專用多重反射 ATR|高靈敏度配置

ConcentratIR2 專為微量液體與高靈敏度分析設計,可用極少樣品量取得多重反射訊號,適合稀有溶劑、生化萃取物與微量液體研究。

取樣量需求10 uL
反射次數Si 11 次 / Extended Si 23 次 / Diamond 10 次
溫度範圍常溫,或可選配加熱至 200°C
適用方向微量液體、生化檢測與高靈敏度分析
PIKE PIKE GladiATR illuminate
由底部光導管導入 UV/Vis 光源,可在照光同時進行 FTIR 光化學 in-situ 監測。

PIKE GladiATR illuminate

光化學反應鑽石 ATR|底部引入光源之 in-situ 監測

GladiATR illuminate 適合 UV 固化、光起始聚合與光化學反應研究,能在樣品照光過程同步追蹤紅外光譜變化。

光源導入底部光導管導入 UV/Vis
關鍵應用光化學 in-situ 監測、UV 固化、光起始聚合
樣品方向光敏樹脂、塗層、薄膜與光反應材料
Variable Angle / ATR

ATR 相關反射平台Variable angle ATR options

部分變角反射平台可透過 ATR crystal option 支援 ATR 量測;若需求涉及薄膜、鍍層、偏振或入射角條件,可一併評估。

PIKE PIKE VeeMAX III 變角反射與 ATR 附件

PIKE VeeMAX III

變角反射平台|可擴充 ATR 量測

VeeMAX III 是研究級可變角鏡面反射附件,透過 30° 至 80° 的入射角調整與偏振控制,支援薄膜、鍍層、單分子層及聚合物表面等平面樣品的鏡面反射量測;搭配 Slip-On ATR 晶體模組後,亦可切換為變角 ATR 深度剖析平台。

主光路Variable angle specular / external reflection
ATR 關聯可搭配 ATR crystal option,作變角 ATR 與薄膜深度分析
選擇重點需依入射角、偏振、晶體模組與 FTIR 主機樣品室空間確認配置