FTIR Accessories Hub Transmission / ATR / DRIFTS / Reflectance

FTIR 光譜儀量測附件與原位分析系統

依技術模式整理 FTIR 附件:基礎穿透量測、ATR 衰減全反射、漫反射與原位反應、鏡面反射與薄膜分析。

Transmission Hub

基礎穿透量測固體、液體、氣體與溫控穿透附件

適合 KBr 壓片、液體 cell、氣體 cell,以及需要加熱、低溫或高溫控制的 transmission 方法。

基礎固體壓錠機

固體製樣與穿透附件 (Solid Sample Preparation)

用途KBr 壓片、粉末製樣
搭配Die set, KBr powder, holder
適合固體樣品 transmission
FTIR 液體槽

液體槽與量測附件 (Liquid Cells & Accessories)

型式可拆式、密封式、流通式
條件依溶劑、光徑與清潔方式選型
適合一般液體與微量液體
FTIR 氣體槽

氣體槽與分析系統 (Gas Cells & Systems)

型式短光徑、長光徑、加熱氣體槽
應用氣相吸收、環境監測、反應氣體
重點依濃度與光程需求選型

溫控穿透解決方案 (Heated & Cryogenic Systems)

提供從液態氮低溫相變到 500°C 高溫氣固反應的完整控制艙,支援 PIKE Falcon 與 Harrick HTC 等頂級系統。

進入溫控專區
ATR Hub

ATR 衰減全反射Routine、極端環境、微量與表面分析

從日常品管到高溫高壓反應、微量液體、單分子層與 UV 光化學 ATR 監測。

Harrick DiaMax

Harrick DiaMax

晶體Diamond ATR
特色高通量、防過載壓持
應用硬質固體、粉末、液體
PIKE MIRacle

PIKE MIRacle

型式單次/多次反射 ATR
晶體Diamond, ZnSe, Ge, Si
擴充溫控、流通、壓持器
Harrick AccessATR

Harrick AccessATR

角度固定 45°
特色免校正、內建液體槽與壓持器
適合教學與 routine QA/QC
Harrick VariGATR

Harrick VariGATR

角度60° to 65° 可變高入射角
晶體Ge 半球形晶體
應用晶圓、薄膜、單分子層
Harrick ConcentratIR2

Harrick ConcentratIR2

樣品量10 uL 等級
反射多重反射 ATR
應用微量液體、高靈敏度分析
PIKE IRIS

PIKE IRIS

壓力高達 10,000 psi
光譜高壓與廣光譜範圍
應用硬粉末、礦物、極端壓力
PIKE GladiATR 300°C

PIKE GladiATR (300°C)

溫度最高 300°C
結構全不鏽鋼無 O-ring
應用高溫、腐蝕性樣品
Specac Golden Gate

Specac Golden Gate

溫度-150°C to 300°C
晶體Diamond ATR
應用相變、原位反應、極端溫控
PIKE GladiATR illuminate

PIKE GladiATR illuminate

光源底部導入 UV/Vis
應用UV 固化、光化學反應
模式照光同步 FTIR 監測
DRIFTS & In-situ Hub

漫反射與原位反應粉末、催化、氣固反應與高溫反應艙

用於粉末漫反射、催化劑研究、原位反應監測與 Raman 高溫受控氣氛反應。

PIKE EasiDiff

PIKE EasiDiff

型式粉末漫反射附件
特色入門友善、快速取樣
應用routine DRIFTS
PIKE ReactorMAX ATR

PIKE ReactorMAX ATR

型式ATR 反應監測系統
條件高溫高壓與流體導入
應用原位反應與動力學追蹤
Harrick Praying Mantis HVC-DRP 反應艙

Harrick Praying Mantis + HVC-DRP 反應艙

型式DRIFTS 高溫反應艙
條件真空至高壓、高低溫控制
應用觸媒、氣固反應、氧化機制
PIKE DiffusIR

PIKE DiffusIR

型式研究級漫反射平台
溫度環境控制艙最高 1000°C
應用粉末、催化劑、反應氣氛
PIKE UpIR

PIKE UpIR

型式朝上式漫反射附件
樣品大型樣品、粉末、固體
應用金屬表面塗層與粗糙表面
Cross-Technology Spotlight

跨技術原位分析方案:Raman 高溫/高真空反應腔

不僅專精於 FTIR,我們同樣為 Raman 光譜提供頂級的極端環境控制方案。這款專為拉曼光譜設計的反應腔,支援最高 910°C (真空下) 與精密氣體控制,是觸媒與材料科學的極致利器。

Specular Reflectance Hub

鏡面反射與薄膜分析晶圓、鍍膜、掠角與電化學界面

適合薄膜、半導體晶圓、金屬基板、表面取向與電化學原位界面分析。

PIKE VeeMAX III

PIKE VeeMAX III

型式自動化變角反射/ATR 平台
角度變角鏡面反射
應用薄膜、單分子層、聚合物表面
Harrick FastIR

Harrick FastIR

型式薄膜/表面分析附件
應用快速表面與薄膜 FTIR 分析
搭配反射與偏振條件評估
Harrick WafIR

Harrick WafIR

型式晶圓薄膜分析附件
樣品Si wafer、單面鍍膜
應用表面薄膜與低濃度污染
Harrick Refractor 500°C

Harrick Refractor (500°C)

型式高溫掠角反射系統
溫度最高 500°C
應用金屬/半導體基板薄膜
PIKE JackFish 電化學

PIKE JackFish 電化學

型式Spectroelectrochemistry cell
應用ATR-SEIRAS、電化學界面
搭配可變角單點反射系統

核心擴充配件與軟體 (Accessories & Software)

搭配高階反射附件與高低溫反應艙使用的專屬擴充模組。

Harrick Polarizer

Harrick Polarizer

基材KRS-5 wire grid polarizer
範圍5000 cm-1 to 285 cm-1
搭配Seagull, FastIR, VariGATR / GATR
PIKE Polarizer

PIKE Polarizer

型式Manual / Precision Manual / Automated
光譜NIR, mid-IR and far-IR
搭配VeeMAX, RotatIR, 80Spec, AGA
TempLink

TempLink 軟體

功能溫度梯度與光譜擷取連動
支援Thermo OMNIC, Bruker OPUS 等
搭配GladiATR, DiffusIR, HVC-DRP

需要確認 FTIR 附件與 主機相容性

請提供 FTIR 主機品牌型號、樣品型態、量測模式、溫度 / 壓力 / 氣氛條件,以及是否需要原位反應、流通或特殊表面分析。我們可協助對應 PIKE、Harrick 與 Specac 的合適配置。